半導體設備大廠應用材料AppliedMaterials,AMAT宣布推出一組以金屬氧化物晶體管生產的全新技術系統可用于生產包括4K2K電視面板在內所需的薄膜晶體管TFT應用材料指出該款系統符合今日消費者對屏幕性能清晰度色彩和明亮度的更高規格需求可生產高分辨率顯示器所需的更小反應更快的薄膜晶體管

應用材料指出新的PVD和PECVD系統的材料工程能力為未來量產以金屬氧化物為基礎的顯示器提供最佳化具成本效益的解決方案該生產技術平臺主要可導入大尺寸超高分辨率UHD液晶顯示和有機發光二極管OLED顯示器的生產不僅大幅提升應材在金屬氧化物MO薄膜和技術的領導地位

金屬氧化物型薄膜晶體管為可制造低功率高分辨率的智能型手機平板計算機及有機發光二極管電視OLEDTV之先進技術未來4K2K超高分辨率電視機預計也將采用金屬氧化物薄膜晶體管技術應用材料的PVD和CVD系統均具備均勻度和微塵粒子控制技術有助客戶提供高良率量產的全新顯示器

應用材料公司資深副總裁AliSalehpour指出應用材料的PVD和PECVD系統能協助客戶轉換既有的金屬氧化物材料技術加速顯示器產業的技術藍圖演進同時符合客戶對均勻度微塵粒子控制和穩定度挑戰的嚴格要求

應材指出新的PVD系統可提升均勻度同構型和低缺陷的金屬氧化物反應層沉積例如氧化銦鎵鋅IGZO以及金屬導線和像素電極特性應材說明當薄膜晶體管愈來愈小而基板愈來愈大時均勻度和微塵粒子對良率就會產生更大的影響力均勻的IGZOPiVot沉積膜可使薄膜晶體管達到高可靠度是顯示器高質量的重要因素也是大小尺寸OLED使用金屬氧化物技術背板的關鍵所在

另一方面應用材料的新PECVD系統則提供領先市場的二氧化硅SiO2制程可降低制程的氫含量并為金屬氧化物晶體管沉積絕緣層界面藉此增進晶體管的長期穩定性并提升屏幕最佳化的性能