電鍍是一種通過電解的方法沉積所需形態(tài)鍍層的過程其目的是改變產(chǎn)品表面的特性并改善外觀因此鍍液是電鍍過程中決定質(zhì)量的關(guān)鍵也是電鍍出高品質(zhì)產(chǎn)品的前提而維護(hù)鍍液穩(wěn)定是達(dá)到所需鍍層要求的基礎(chǔ)所以今天就來探討一下電鍍液的成份組成與日常維護(hù)管理

１.鍍液分類

不同的鍍液含有不同的成分但不管何種鍍液都含有主鹽（如硫酸鎳焦磷酸銅硫酸鈷等）根據(jù)主鹽性質(zhì)的不同可將鍍液分為單鹽鍍液和配合物鍍液兩大類一般單鹽鍍液都是酸性溶液配合物鍍液有酸性的也有堿性的但其中都含有配位劑除了主鹽及配合物外有些鍍液中還含有導(dǎo)電鹽緩沖劑添加劑陽極去極化劑等

２.影響鍍層質(zhì)量的因素

２．１鍍液成分的影響

２．１．１主鹽

主鹽的質(zhì)量濃度有一個適宜的范圍同時它應(yīng)與鍍液中的其他成分維持恰當(dāng)?shù)谋壤?span id="qi6qezr" class="myIcon">當(dāng)主鹽的質(zhì)量濃度較高時可采用較高的電流密度沉積速率快同時溶液的導(dǎo)電性和電流效率也高光亮整平性也好但帶出損失大成本高當(dāng)主鹽的質(zhì)量濃度低時分散能力和覆蓋能力好

２．１．２導(dǎo)電鹽

導(dǎo)電鹽能提高鍍液的導(dǎo)電性降低槽電壓對改善鍍層質(zhì)量有利

２．１．３緩沖劑

緩沖劑在溶液中遇到酸或堿時能減小鍍液ｐＨ值的變化幅度保持鍍液ｐＨ值的穩(wěn)定如鍍鎳液中的硼酸它對于穩(wěn)定鍍鎳液的ｐＨ值是不可或缺的

２．１．４陽極去極化劑

陽極去極化劑在電鍍時能使陽極電位變負(fù)促進(jìn)陽極活化如鍍鎳液中的氯化物氰化物鍍銅液中的酒石酸鉀鈉等

２．１．５配位劑

配位劑在電鍍生產(chǎn)中能將主鹽中的金屬離子絡(luò)合如氰化物鍍液中的氰化鈉等配位劑能使鍍層結(jié)晶細(xì)致同時促進(jìn)陽極溶解但常降低鍍液的電流效率減慢鍍層的沉積速率質(zhì)量濃度太低分散能力和覆蓋能力較差

２．１．６添加劑

添加劑能改善鍍液性能和鍍層質(zhì)量一般分為光亮劑整平劑潤濕劑走位劑柔軟劑等通過添加不同的添加劑可以得到符合要求的鍍層

２．２電鍍工作條件的影響

２．２．１電流密度

電流密度有上限和下限只有當(dāng)電流密度在上下限之間時才能獲得良好的鍍層一般來講當(dāng)電流密度太低時鍍層的結(jié)晶速率慢但不能太高當(dāng)超過上限時在陰極的尖端或凸出處會產(chǎn)生樹枝狀和海綿疏松鍍層

２．２．２鍍液溫度

其他條件不變時升高鍍液溫度會降低陰極極化作用使鍍層結(jié)晶變粗但升高溫度可以提高電流密度上限提高生產(chǎn)效率同時還能提高鍍液的導(dǎo)電性促進(jìn)陽極溶解

２．２．３移動攪拌

機(jī)械攪拌和移動能加速鍍液的對流使陰極附近消耗了的金屬離子及時得到補(bǔ)充降低濃差極化攪拌后可以提高允許電流的上限值可以在較高的電流密度和電流效率下得到緊密細(xì)致的鍍層一般攪拌的電解液需配備連續(xù)循環(huán)過濾

３.鍍液的維護(hù)與管理

為了從鍍液中電鍍出滿足質(zhì)量要求的產(chǎn)品鍍液的日常維護(hù)和管理是很關(guān)健的

３．１鍍液成分的控制

一般的電鍍工藝都有鍍液的工藝規(guī)范確保鍍液的主要成分在工藝范圍內(nèi)是鍍出完美鍍層的先決條件按周期對鍍液進(jìn)行分析調(diào)整確保鍍液的工藝規(guī)范添加主鹽時一般用活性炭處理后加入

３．２保持鍍液清潔

鍍液一般半個月過濾清理一次每季度大處理一次對于空氣攪拌的鍍液要進(jìn)行連續(xù)循環(huán)過濾加強(qiáng)失落件的打撈掉入鍍槽的產(chǎn)品要及時撈起在不生產(chǎn)時可以對鍍液進(jìn)行加蓋以防灰塵和其他固體雜質(zhì)進(jìn)入

３．３電鍍陽極的維護(hù)與添加

陽極材料要定點(diǎn)采購有質(zhì)量保證書添加陽極或移動陽極材料后要對鍍液加強(qiáng)過濾或電解以防粗糙產(chǎn)生質(zhì)量問題當(dāng)發(fā)現(xiàn)陽極板變少時要及時添加

３．４添加劑的添加

添加劑應(yīng)以生產(chǎn)消耗和產(chǎn)品的實(shí)際情況來添加使鍍層質(zhì)量保持一致.

３．５鍍液操作條件的控制保持鍍液溫度和ｐＨ值的穩(wěn)定加強(qiáng)雜質(zhì)的電解控制電鍍的載荷時間及選用合適的電源是保持鍍層穩(wěn)定的基本要求

４.鍍液雜質(zhì)的影響及去除

一般鍍液中影響鍍層質(zhì)量的雜質(zhì)有金屬雜質(zhì)和有機(jī)雜質(zhì)如鍍鎳液中的銅鐵鋅鉻等離子以及添加劑的分解產(chǎn)物雜質(zhì)來源一般有材料帶入產(chǎn)品掉槽中清洗不干凈及其他帶入雜質(zhì)可以采用電解調(diào)整ｐＨ值沉淀加掩蔽劑及除雜劑和活性炭吸附等方法來處理

５.結(jié)語

 隨著我們電鍍行業(yè)的不斷向前發(fā)展新的電鍍工藝不斷涌現(xiàn)但在生產(chǎn)過程中正確維護(hù)和管理好鍍液是獲得高質(zhì)量鍍層的前提確保鍍液的穩(wěn)定是保證產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定的基礎(chǔ)