曝光機的組成機構(gòu)
UV燈構(gòu)造
帶托盤的晶片工作臺
配CCD鏡頭的顯微鏡
掩膜夾具
UV燈透鏡
UV燈鏡片
UV燈電源系統(tǒng)
操作控制器
350W UV燈
晶片臺
基底尺寸 標準尺寸 最大至4英寸可選最大至6英寸
托盤 標準尺寸 最大至4英寸可選最大至6英寸
活動范圍X10mm Y 10mm Z 10mm Theta 4 degree
擠入補償 Air bearing型
Z軸滑動 手動
真空泵 無油真空泵
掩膜臺
掩膜夾具類型 真空吸附和機械夾取
均勻光束大小 4.25 X 4.25
支持接近式曝光各種接觸式（真空接觸軟接觸硬接觸等）曝光
接觸式曝光特征尺寸
0.35 um@深紫外DUV
0.5um@近紫外NUV
0.6um@紫外UV
接近式曝光特征尺寸
1um @ Gap為20 um
2um @ Gap為50 um
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