應用

等離子體處理可應用于所有的基材甚至復雜的幾何構形都可以進行等離子體活化等離子體清洗等離子體鍍膜也毫無問題等離子體處理時的熱負荷及機械負荷都很低因此低壓等離子體也能處理敏感性材料等離子刻蝕機的典型應用包括

等離子體清除浮渣

光阻材料剝離

表面處理

各向異性和各向同性失效分析應用

材料改性

包裝清洗

鈍化層蝕刻

聚亞酰胺蝕刻

增強粘接力

生物醫學應用

聚合反應

混合物清洗

預結合清洗

激光干涉

激光干涉終點法（IEP）是用激光光源檢測透明薄膜厚度的變化當厚度變化停止時則意味著到達了刻蝕終點其原理是當激光垂直入射薄膜表面時在透明薄膜前被反射的光線與穿透該薄膜后被下層材料反射的光線相互干涉